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KRI 考夫曼离子源 RFICP 40
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KRI 考夫曼离子源 RFICP 40
产品描述
完美体育365官方网站代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 40, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.
KRI 射频离子源 RFICP 40 属于大面积射频离子源, 离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量 (Typical flow): 3-10 sccm.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
适用于集成在小型的真空腔体内.
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 40 产品特性：
完美体育 KRI 射频离子源 RFICP 40 特性:
1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.
2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单; 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.
3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束
4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用
6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数：
KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:
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离子源型号
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RFICP 40
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Discharge
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RFICP 射频
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离子束流
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>100 mA
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离子动能
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100-1200 V
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栅极直径
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4 cm Φ
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离子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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3-10 sccm
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通气
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型压力
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< 0.5m Torr
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长度
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12.7 cm
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直径
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13.5 cm
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中和器
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LFN 2000
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* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域：
完美体育KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域：
1. 预清洗
2. 表面改性
3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
4. 溅镀和蒸发镀膜 PC
5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
6. 离子蚀刻 IBE
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 40 应用案例：
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