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KRI 离子源
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 完美体育365官方网站是美国考夫曼离子源中国总代理. 霍尔离子源 射频离子源 考夫曼离子源 离子源自动控制器
KRI 离子源中和器 LFN2000 是一个非浸没的中和器, 它安装在离子源的一侧.
KRI 离子源中和器 LFN2000 比浸入式灯丝的工作时间要长得多, 适合时间长/ 高要求的工艺.
KRI 离子源中和器 LFN2000 安装非常适合高通量负载锁定平台, 在这种平台上, 不经常的舱室通风需要可靠和低维护的中和器. 当需要最终的维护任务时, LFN的模块化架构促进了插头和插座功能访问时快速和简单的步骤.
KRI 离子源中和器 LHC1000
KRI 离子源中和器 MHC1000
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